灰分坩堝主要用于氣氛保護(hù)下燒結(jié)、真空下反應(yīng)燒結(jié)等。廣泛應(yīng)用于高等院校，科研院所，工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)。主要用于煅燒真空或惰性氣體保護(hù)下的高純度化合物或擴(kuò)散半導(dǎo)體晶片，也可用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料。
 

　　灰分坩堝的熔點(diǎn)高，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，在空氣中灼燒后不發(fā)生化學(xué)變化，也不吸收水分，大多數(shù)化學(xué)試劑對它無侵蝕作用。
 

　　能耐氫氟酸和熔融的堿金屬碳酸鹽的腐蝕是鉑有別于玻璃、瓷等的重要性質(zhì)，因而常將其用于沉淀灼燒稱重、氫氟酸熔樣以及碳酸鹽的熔融處理。鉑在高溫下略有一些揮發(fā)性，灼燒時間久后要加以校正。100cm2面積的鉑在1200℃灼燒1h約損失1mg，鉑在900℃以下基本不揮發(fā)。
 

　　注意事項(xiàng)：
 

　　1、產(chǎn)品使用前，需裝爐空載煅燒。參考煅燒工藝為：
 

　?、凫褵龝r，坩堝堝底位于爐內(nèi)高溫區(qū)，采取分段升溫方式，低溫時不充氬氣，
 

　?、陟褵郎囟?gt;1600℃(或煅燒功率大于化料功率5kW左右)，
 

　?、垤褵龝r間為(4～8)h，
 

　?、莒褵螖?shù)為(1～3)次，數(shù)次烘烤時，需將前次煅燒時沾污在爐內(nèi)及被煅燒物上的雜物清理干凈才進(jìn)行下次煅燒。
 

　　2、裝料前，需將堝托、碳/碳坩堝等制品的內(nèi)外表面清理干凈，安放平穩(wěn)，并使灰分坩堝的堝體與其活動底的接縫處高度一致,平滑過渡,防止因安裝不當(dāng)至開裂漏硅。
 

　　3、放灰分坩堝時，視其質(zhì)量使外徑小于內(nèi)徑(3～8)mm，以利于加熱時產(chǎn)生的氣體逸出，減輕其對灰分坩堝的危害。
 

　　4、在使用過程中若出現(xiàn)悶爐情況，應(yīng)在停爐的前20分鐘采取相應(yīng)措施，減慢硅液的冷卻速度，盡可能使堝內(nèi)硅料按從下往上的順序冷卻，以減小硅料冷卻時膨脹產(chǎn)生的應(yīng)力對坩堝的損害。